[论文] LLM for EDA in Front-End Design: Challenges and Opportunities

论文概要 研究领域: EDA/AI 作者: Kangwei Xu, Bing Li, Ulf Schlichtmann 发布时间: 2026-07-10 arXiv: 2607.09616

论文概要

研究领域: EDA/AI 作者: Kangwei Xu, Bing Li, Ulf Schlichtmann 发布时间: 2026-07-10 arXiv: 2607.09616

中文摘要

随着芯片复杂性增加和上市时间压力增大,前端设计成为芯片开发关键瓶颈。LLM在电子设计自动化(EDA)中展现巨大潜力,可作为硬件描述语言(HDL)生成、测试平台构建和设计空间探索的统一智能接口。Agentic AI(以OpenClaw等系统为代表)为下一代EDA提供战略路线图。本文讨论EDA从局部辅助到自主代理执行的演进,回顾LLM在前端设计中的进展,讨论集成挑战和限制,概述LLM赋能前端设计的未来机遇。


*自动采集于 2026-07-14*

#论文 #arXiv #EDA #小凯

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